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  • 納米范德瓦爾斯材料的紅外雙曲變面研究獲重要進(jìn)展

    時(shí)間:2018-04-11 作者: 閱讀:3809

    2018年2月,西班牙Rainer Hillenbrand教授在《Science》上發(fā)表了題為:Infrared hyperbolic metasurface based on nanostructured van der Waals materials的全文文章,發(fā)現(xiàn)納米范德瓦爾斯材料上的紅外雙曲變面特性,在紅外可變平臺(tái)設(shè)備的開發(fā)中取得重要進(jìn)展。

    文章中Hillenbrand團(tuán)隊(duì)利用超高分辨散射式近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡neaSNOM,對(duì)納米級(jí)氮化硼薄膜表面進(jìn)行了精細(xì)掃描。該類型薄膜表面一般具有光學(xué)超表面特性,同時(shí)可以支持深度亞波長(zhǎng)尺度的聲子極化激元。研究者在在這樣的納米結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)上,通過(guò)neaSNOM優(yōu)于10nm空間分辨率的光譜和近場(chǎng)光學(xué)圖像觀測(cè)到了發(fā)散極化子束的不規(guī)則波前,如下圖所示。圖1 A為該項(xiàng)工作的原理示意,圖1 B為該結(jié)構(gòu)的形貌表征;圖1 C、D為近場(chǎng)強(qiáng)度信號(hào)在該結(jié)構(gòu)中的納米成像并分辨對(duì)應(yīng)HMS(實(shí)線)及hBN(虛線)結(jié)果。這些表征結(jié)果精確描述了hBN光柵功能面內(nèi)的HMS。

    該工作在光學(xué)超表面光學(xué)性質(zhì)的研究,對(duì)于控制材料的等離子體極化激元有著突出的意義,其中利用到一種獨(dú)特的相位和振幅信號(hào)分離技術(shù),這種技術(shù)是超高分辨散射式近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡neaSNOM專利申請(qǐng),如下圖,HMS-PHPs的波前成像結(jié)果顯示其發(fā)散極化子束的不規(guī)則波前,是雙曲極化子的重要特征。近場(chǎng)增強(qiáng)和限制可以有效操縱交換表面發(fā)射的熱輻射。該項(xiàng)研究成果揭示了各向異性材料中極化基元的不規(guī)則波前,與此同時(shí),該類型納米結(jié)構(gòu)尺寸的范德華材料擁有優(yōu)異的雙曲線性質(zhì),使得紅外可變平臺(tái)設(shè)備的開發(fā)在未來(lái)的研究中將進(jìn)一步成為可能。

    ★ 科普小知識(shí) ★

    neaSNOM是德國(guó)neaspec公司推出的第三代散射式近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡(簡(jiǎn)稱s-SNOM),其采用了專利化的散射式核心設(shè)計(jì)技術(shù),極大的提高了光學(xué)分辨率,并且不依賴于入射激光的波長(zhǎng),能夠在可見、紅外和太赫茲光譜范圍內(nèi),提供優(yōu)于10nm空間分辨率的光譜和近場(chǎng)光學(xué)圖像。由于其高度的可靠性和可重復(fù)性,neaSNOM業(yè)已成為納米光學(xué)領(lǐng)域熱點(diǎn)研究方向的首選科研設(shè)備,在等離基元、納米FTIR和太赫茲等眾多研究方向得到了許多重要科研成果。

    ★ 超高分辨成像技術(shù)的諸多特點(diǎn),你知道嗎? ★

    ◆  neaSNOM是目前世界上唯一成熟的s-SNOM成像產(chǎn)品

    ◆  專利保護(hù)的散射式近場(chǎng)光學(xué)測(cè)量技術(shù)——獨(dú)有的極高10 nm空間分辨率

    ◆  專利的高階解調(diào)背景壓縮技術(shù)——在獲得10nm空間分辨率的同時(shí)保持極高的信噪比

    ◆  專利保護(hù)的干涉式近場(chǎng)信號(hào)探測(cè)單元

    ◆  專利的贗外差干涉式探測(cè)技術(shù)——能夠獲得對(duì)近場(chǎng)信號(hào)強(qiáng)度和相位的同步成像

    ◆  專利保護(hù)的反射式光學(xué)系統(tǒng) ——用于寬波長(zhǎng)范圍的光源:可見、紅外以至太赫茲

    ◆  高穩(wěn)定性的AFM系統(tǒng),——同時(shí)優(yōu)化了納米尺度下光學(xué)測(cè)量

    ◆  雙光束設(shè)計(jì)——極高的光學(xué)接入角:水平方向180°,垂直方向60°

    ◆  操作和樣品準(zhǔn)備簡(jiǎn)單 ——僅需要常規(guī)的AFM樣品準(zhǔn)備過(guò)程

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